3M7100 电子氟化液可替代7100半导体电子设备冷却液

替代品3M 7100电子氟化液电子清洁剂 电路板清洗剂半导体清洗稀释
氟化液的用途：
一 电气、电子：

1  用于 精密清洗电子零件的颗粒杂质；

2 清洗CCD、CMOS图像感应芯片及模块；

3 清洗LCD/OLED显示器、光学零件、镜片；

4 清洗、干燥MEMS制品 。

5  气密性测试、耐电压测试的媒介物。

6 氟油、氟树脂、氟涂层剂溶剂稀释。

7  冷却计算机服务器、雷达、传感器、电容器、变压器、发电机、LED照明管路等设备。 性能要求：浸透性、不燃性、材料兼容性、导热特性。
二 半导体、液晶生产设备：

1 干法蚀刻装置、光刻装置、探头、离子喷射装置、信息处理机等装置的控温冷媒。

2  清洗半导体蚀刻腔体的零件，清除氟素残留堆积物（反应产生物）。性能要求：  电气绝缘性、流动性（低粘性）材料兼容性、不燃性、到特性。
三   工业生产市场 ：

1 冷却整流器。

2 热导管溶剂

3 热泵的液压轴

4 粉碎冷冻溶剂 

5 清洗汽车引擎零件

6 漆包线气密测试

7 恒温槽溶剂

8 清洗通讯设备。

9  清洗航空引擎、输氧管路设备 。性能要求： 流动性（低粘性）、电气绝缘性、热稳定性、地表面张力、蒸发潜热。
 四   化学、医药品市场： 1  燃点调整剂  2  萃取溶剂 3  去除反应热 4 反映媒介 5清洗医疗设备零件。性能要求： 不燃性、低毒性、低温特性、溶解性。
五   其它  余热利用系统载体介质
HFE-7100是一种无色澄清，无色无味的液体物质，其中甲氧基-九氟代丁烷（C4F9OCH3）含量为99.5％，非挥发组分小于2.0pmm，专门用以替代氟利昂等“臭氧层破坏性”物质。该产品在新型的的氟氯化碳取代物产品家族中毒性最低，以8小时平均工作时间计，它的时间加权平均限制浓度750ppm。主要应用于精密电子仪器、医疗设备的清洗保清洗剂、溶剂，用于取代CFC-113、三氯乙烷、四氯化碳等。
●特点：无色、无味、无毒、不燃烧，ODP值为零；表面张力低、黏度小、蒸发潜热小。
●用途：特殊用途的溶剂、清洗剂、漂洗剂、无水流体、去焊剂和热传递介质，主要用于电子仪表和激光盘片的清洗，颗粒杂物的去除，光学系统及精密场合下清洗。
●优点：由于性能最接近CFCs，可使用原有清洗设备，不需要增加设备投资，也不需要对工艺做大的改变。绝对环保，安全！

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